電鍍設備工藝要求有什麽？

1.鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。

2.鍍層應結晶細（xì）致、平整、厚度均勻。

3.鍍層應具（jù）有規定的厚度和（hé）盡可能少的孔隙。

4.鍍層應具（jù）有規定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性（xìng）等。

5.電（diàn）鍍時（shí）間及（jí）電（diàn）鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的（de）大小。

6.環（huán）境溫度為-10℃~60℃。

7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

8.水處理設備最大工作噪聲應不大（dà）於80dB(A)。

9.相（xiàng）對濕度(RH)應不大於95%。

10.原水COD含（hán）量為100mg/L~150000mg/L。