電鍍設備銅中氯（lǜ）離子消耗過大的原因

電鍍設備鍍銅時線路板板麵的低電流區出現"無光澤"現象（xiàng），氯（lǜ）方子濃度偏低;一般通過添加鹽酸後，板麵低電流密度區的鍍層"無光澤"現象才能消失，鍍液中的氯離子濃度才能達到正常範圍，板麵鍍層光亮。如果要通過添加大量鹽酸（suān）來解決低電（diàn）流密（mì）度區鍍層"無光澤"現（xiàn）象，就（jiù）不一（yī）定是氯離子濃度太低而（ér）造成（chéng）的，需分析其真正的原因（yīn）。如果采（cǎi）取（qǔ）添加大量鹽酸：一（yī）來，可能會產（chǎn）生其它後果，二來增加生產成本，不利於企業競爭。

通過添加大量（liàng）的鹽酸來消除"低（dī）電流密度區鍍層不光亮"現象，說明如是氯離子過少，才需添加鹽酸來增加氯（lǜ）離子的濃（nóng）度達到正（zhèng）常（cháng）範圍，使低（dī）電（diàn）流密度（dù）區（qū）鍍層光亮。如果要添加成倍的鹽酸才能使（shǐ）氯離子（zǐ）的濃度達到正常範圍?是（shì）什麽在消耗大量的氯離子呢?氯離子濃（nóng）度太高會使光亮劑消耗快。說明氯離子與光亮劑（jì）會產生反應，過量的氯離子會消耗;反過來，過量的光亮劑也消耗氯離子。因為氯離子過少和光亮劑過量都是造成低電流密度區鍍層不光亮"的主要原因，因此可見，造成"鍍銅（tóng）中氯離子消（xiāo）耗過大的主要（yào）原因是光亮劑濃度太高。

目前隨著印（yìn）製線路板向高密度、高精度方向發展，電鍍設備對硫酸鹽鍍（dù）銅（tóng）工藝提出了更加嚴格的要求，電鍍設（shè）備必須同時控製好鍍銅工藝過程中的各種因素（sù），才能獲得高品質的鍍層。