電鍍設備拋（pāo）光液的組成及其他（tā）影響因素

    電鍍設（shè）備化學拋光（guāng）是指在合適的（de）溶液中（zhōng），不使用（yòng）外接電源，依靠化學（xué）浸（jìn）蝕作用對工件進行（háng）的拋光。在化學（xué）拋光過程（chéng）中，由於金屬微（wēi）觀表麵形成了不均勻的鈍化膜，或由於形成了類似電解拋光過程中所形成的稠質（zhì）黏膜，從而（ér）使表麵微觀凸出部分的溶解速（sù）度顯（xiǎn）著大於微觀凹（āo）入部分，因此降低了零件的表麵顯微粗糙程度（dù），使零（líng）件表（biǎo）麵（miàn）比較光亮（liàng）和平整。化學拋光廣（guǎng）泛應用於不鏽鋼（gāng）、銅及鋁（lǚ）合金等的拋光，還用於對一些零件做裝飾加工。化（huà）學拋光可作為電鍍前的處理工序，也可（kě）在拋（pāo）光後輔以必要的防護措施而直（zhí）接（jiē）使用。

     電鍍（dù）設備拋光液組成：為（wéi）了保證化學拋光（guāng）的效（xiào）果，必須使金屬（shǔ）表麵溶解（jiě），並在表（biǎo）麵形成（chéng）前述（shù）的液體膜或固體膜。化學拋光液的基本組成（chéng）一般包括腐蝕（shí）劑（jì）、氧化劑、添加劑和水。其中，腐蝕劑是主要成分，主要使工（gōng）件在溶液中溶解（jiě）;氧化劑和添加劑可抑製腐蝕過程，使反應朝有利於拋光的（de）方向進行;水對溶液濃度起調節作用，便（biàn）於反應產物的擴散。

      電鍍設備用作金（jīn）屬溶解的成（chéng）分一般是酸，其中用（yòng）得較多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO。、HF等強酸，而對鋁那樣的（de）兩性金屬，也可用NaOH，在這些酸（suān）中由於（yú）高濃度的磷酸和硫（liú）酸都具有（yǒu）較（jiào）高的黏度，可形成液體膜擴散層，故這種成分具有兩種功能。這也是在化學拋光液的組成中主要采用磷酸和硫酸的原因。為了提高黏度，使擴散層容易（yì）形成，也可加進明膠或甘油等（děng）能提（tí）高黏度的添加（jiā）劑。為了促（cù）進固體膜的形成（chéng），則（zé）需加入以硝酸或鉻（gè）酸為主的強氧化劑。